四氟化碳的用途与作用 :
四氟化碳是可作为氟和自由基氟化碳的来源,用于各种晶片蚀刻工艺。四氟化碳和氧结合用以蚀刻多晶硅、二氧化硅和氮化硅。四氟化碳在通常环境下是相对惰性的,在不通风的地方会引起窒息。在射频等离子体环境中,氟自由基表现为典型的三氟化碳或二氟化碳的形式。高纯度的四氟化碳能很好的控制加工过程,使尺寸和形状得到更好的控制,这不同于其他的卤烃遇到空气或氧气时不利于各种特殊的控制(如半导体各项异性控制)。
四氟化碳的密度比较高,可以填满地面空间范围,在不通风的地方会导致窒息。四氟化碳成品应存放在阴凉,干燥,通风的库房内,严禁曝晒,远离热源。四氟化碳是可作为氟和自由基氟化碳的来源,用于各种晶片蚀刻工艺。四氟化碳和氧结合用以蚀刻多晶硅、二氧化硅和氮化硅。四氟化碳是目前微电子工业中用量大的等离子蚀刻气体,其高纯气及四氟化碳高纯气配高纯氧气的混合体,可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨薄膜材料的蚀刻。
高纯四氟化碳是纯度在99.999%以上的四氟化碳产品,是一种无色无味气体。高纯四氟化碳不可燃烧,在常温常压条件下化学性质稳定,在密闭容器中遇高热有危险,不溶于水,可溶于苯、等部分溶剂。常温常压下稳定,避免强氧化剂、可燃物。不燃气体,遇高热后容器内压增大,有开裂、炸危险。化学性质稳定,不燃。常温下只有液氨-试剂能发生作用。高纯四氟化碳在常温常压条件下化学性质稳定,高纯四氟化碳是一种高纯电子气体,在电子产业中需求量大。
以上信息由专业从事高浓度四氟化碳的安徽谱纯于2024/4/30 5:58:01发布
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